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本发明公开了一种等离子刻蚀残留物清洗液，其包含溶剂、水和氟化物，其还含有含颜料亲和基团的星形聚合物。本发明的等离子刻蚀残留物清洗液可以有效去除等离子刻蚀后的光阻残留物、同时可以高效的抑制金属（尤其是铝）和非金属的腐蚀、有较大的清洗和漂洗的操...
该专利属于安集微电子科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技（上海）有限公司授权不得商用。

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