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本发明实施例涉及一种制备涂层的方法、涂层、以及器件。所述方法包括以下步骤:将基材放置于等离子体反应腔室内;以及向所述等离子体反应腔室通入硅氧烷材料,施加偏压电源,等离子体放电,以在所述基材的表面沉积涂层。本发明实施例可以有助于以操作过程较为...该专利属于江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司授权不得商用。
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本发明实施例涉及一种制备涂层的方法、涂层、以及器件。所述方法包括以下步骤:将基材放置于等离子体反应腔室内;以及向所述等离子体反应腔室通入硅氧烷材料,施加偏压电源,等离子体放电,以在所述基材的表面沉积涂层。本发明实施例可以有助于以操作过程较为...