制备涂层的方法、涂层、以及器件技术

技术编号:41804951 阅读:17 留言:0更新日期:2024-06-24 20:25
本发明专利技术实施例涉及一种制备涂层的方法、涂层、以及器件。所述方法包括以下步骤:将基材放置于等离子体反应腔室内;以及向所述等离子体反应腔室通入硅氧烷材料,施加偏压电源,等离子体放电,以在所述基材的表面沉积涂层。本发明专利技术实施例可以有助于以操作过程较为简单、过程可控性较强、较易导入工业化使用的工艺制备涂层等。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及表面处理领域,尤其涉及一种制备涂层的方法、涂层、以及器件


技术介绍

1、当环境中饱和的水蒸气遇到温度低于露点的器件的时候,易于在器件表面形成粘附的雾,这通常引发生活中随处可见的起雾现象。例如手机镜头盖板、滑雪镜、浴室玻璃、眼镜、泳镜、摄像机镜头、汽车后视镜和汽车前挡之类的汽车玻璃等器件起雾的时候,往往直接影响观察视野的清晰度。若高速行驶的汽车前挡玻璃、汽车后视镜在短时间内起雾,将直接影响视野清晰度,带来很大的驾驶危险性。如红外显微镜和手术内窥镜等精密设备的应用也深受起雾现象的不良影响。此外,近些年,清洁能源发展迅速,其中太阳能电池板的光照透过率和发电效率密切相关,太阳能电池板的表面的起雾将直接影响透过率、进而影响发电效率。

2、为解决各种器件的起雾问题,人们进行了广泛的研究,其中一个研究方向是对基材进行表面处理,以得到在部分或者全部表面具有涂层的器件。但是现有的制备涂层的方法往往不甚理想,比如操作过程繁琐,过程可控性较差,很难导入进工业化使用,等等,因此需要改进。


技术实现思路

1、本本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种制备涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述硅氧烷材料包括脂肪链状硅氧烷、环状硅氧烷。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述硅氧烷材料包括六甲基二硅氧烷、1,1,3,3-四甲基二硅氧烷、四甲基二乙烯基二硅氧烷、六乙烯基二硅氧烷、三甲基环三硅氧烷、三甲基三乙烯环三硅氧烷、六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、四甲基环四硅氧烷、四甲基四乙烯基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷、四甲氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷中至少一个。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述硅氧烷...

【技术特征摘要】

1.一种制备涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述硅氧烷材料包括脂肪链状硅氧烷、环状硅氧烷。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述硅氧烷材料包括六甲基二硅氧烷、1,1,3,3-四甲基二硅氧烷、四甲基二乙烯基二硅氧烷、六乙烯基二硅氧烷、三甲基环三硅氧烷、三甲基三乙烯环三硅氧烷、六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、四甲基环四硅氧烷、四甲基四乙烯基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷、四甲氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷中至少一个。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述硅氧烷材料包括六甲基二硅氧烷、八甲基环四硅氧烷中至少一个。

5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述硅氧烷材料的流量在50-500微升/分钟的范围。

6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述偏压电源在-300~-1000伏的范围。

7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述等离子体放电的功率在300~1000瓦的范围。

8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述等离子体放电的时间在2-30分钟的范围。

9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,通入所述硅氧烷材料的时候,所述等离子体反应腔室内压力在2-20帕的范围。

10.如权利要求1所述的方法,其特征在于,包括,通入所述硅氧烷材料的同时,向所述等离子体反应腔室通入惰性气体。

11.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:宗坚李福星康必显
申请(专利权)人:江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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