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一种基板存储容器清洁方法,用于去除基板存储容器表面残留的水分和气态分子污染物,包括以下步骤:步骤S1,对基板存储容器进行解锁,将所述盒体和所述盖体分别置于清洁腔内;步骤S2,对密闭的清洁腔内的所述盒体和所述盖体进行加热,使所述盒体和所述盖体...该专利属于江苏芯梦半导体设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过江苏芯梦半导体设备有限公司授权不得商用。
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一种基板存储容器清洁方法,用于去除基板存储容器表面残留的水分和气态分子污染物,包括以下步骤:步骤S1,对基板存储容器进行解锁,将所述盒体和所述盖体分别置于清洁腔内;步骤S2,对密闭的清洁腔内的所述盒体和所述盖体进行加热,使所述盒体和所述盖体...