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本发明公开了一种基于芯片加工技术的45度硅反射镜的加工工艺，涉及硅湿法腐蚀制作反射镜技术领域；包括如下步骤：S1：采用偏(100)面9.74度切割抛光的硅晶圆作为加工原件；炉管生长一层掩膜层；S2：加工硅晶圆正面，采用光刻和干法刻蚀的方法，...
该专利属于矽安光电科技（南通）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过矽安光电科技（南通）有限公司授权不得商用。

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