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曝光装置、曝光方法以及半导体装置的制造方法制造方法及图纸
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文档序号:41784374
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本发明的实施方式的曝光装置对基板进行曝光。曝光装置包括控制装置,所述控制装置构成为基于配置在基板的三个以上的对准标记的测量结果对曝光量进行校正。控制装置执行基于测量结果执行对相互交叉且与基板的面内平行的第一方向以及第二方向各自的倍率分量进行...
该专利属于铠侠股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过铠侠股份有限公司授权不得商用。
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