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本发明公开了一种光刻胶清洗剂组合物，包含醇胺类化合物、水溶性极性有机溶剂和水，其中还包含选自环己六醇磷酸酯和环己六醇磷酸盐中的一种或几种。本发明的清洗剂组合物可以有效除去半导体晶片上的光刻胶、刻蚀或灰化后的光刻胶残留物或其它残留物，同时对铝...
该专利属于安集微电子（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子（上海）有限公司授权不得商用。

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