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本申请提供一种半导体设备，包括：反应腔室，反应腔室内设置有至少一层丝网，丝网具有网孔，丝网设置于反应腔室的内壁，丝网和反应腔室的内壁共形，网孔用于对反应腔室内的杂质颗粒进行吸附，网孔的尺寸大于杂质颗粒的尺寸，也就是说，反应腔室内设置有具有网...
该专利属于江苏鲁汶仪器股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏鲁汶仪器股份有限公司授权不得商用。

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