温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种栅全包围核壳超晶格场效应晶体管器件及其制备方法,包含衬底层、绝缘层、沟道区、环绕栅结构、源区、漏区;其中所述绝缘层设于衬底层上,所述的绝缘结构中设有凹槽;所述沟道区跨设于所述凹槽之上,凹槽向上朝沟道区延伸,使得沟道区厚度小于源...该专利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院上海微系统与信息技术研究所授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种栅全包围核壳超晶格场效应晶体管器件及其制备方法,包含衬底层、绝缘层、沟道区、环绕栅结构、源区、漏区;其中所述绝缘层设于衬底层上,所述的绝缘结构中设有凹槽;所述沟道区跨设于所述凹槽之上,凹槽向上朝沟道区延伸,使得沟道区厚度小于源...