温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

包含下述式(1)所示的化合物和溶剂的、抗蚀剂下层膜形成用组合物。(在式(1)中，X各自独立地表示卤原子、或具有至少1个卤原子的1价有机基。Y表示n价基团。n表示2～6的整数。)...
该专利属于日产化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日产化学株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。