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一种材料层沉积方法，包括在室装置中支撑一个且仅一个衬底，将衬底暴露于第一材料层前体和第二材料层前体，以及使用第一材料层前体和第二材料层前体形成覆盖衬底的第一材料层。第一材料层暴露于第一材料层前体，并且使用第一材料层前体在第一材料层上形成第二...该专利属于ASMIP私人控股有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASMIP私人控股有限公司授权不得商用。
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一种材料层沉积方法，包括在室装置中支撑一个且仅一个衬底，将衬底暴露于第一材料层前体和第二材料层前体，以及使用第一材料层前体和第二材料层前体形成覆盖衬底的第一材料层。第一材料层暴露于第一材料层前体，并且使用第一材料层前体在第一材料层上形成第二...