温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种共乘光掩模的设计方法，包括以下步骤。在第一芯片区中提供第一集成电路设计，且在第二芯片区中提供第二集成电路设计。第一集成电路设计包括多个第一主图案。第二集成电路设计包括多个第二主图案。在第一芯片区中加入多个第一虚拟插入图案，且在...
该专利属于联华电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。