下载一种铜铟硒溅射靶材及其制备方法的技术资料

文档序号:41746385

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本申请涉及光电材料领域,具体公开了一种铜铟硒溅射靶材及其制备方法,其制备方法包括以下步骤:S1、制备CuIn粉末:将二水合氯化铜、氯化铟的盐酸溶液混合得到初混液,然后加入草酸溶液混合,搅拌,调节pH值为5‑6,反应陈化,过滤洗涤得到CuIn...
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