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具有带有单晶区的非本征基极区的半导体装置及其方法制造方法及图纸
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下载具有带有单晶区的非本征基极区的半导体装置及其方法的技术资料
文档序号:41745632
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一种半导体装置包括半导体衬底、集电极区以及本征基极区,所述集电极区具有第一宽度、形成在所述半导体衬底内,所述本征基极区具有第二宽度、安置在所述集电极区上方,其中所述第一宽度大于所述第二宽度。具有上部表面的非本征基极区形成在所述集电极区上方并...
该专利属于恩智浦有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过恩智浦有限公司授权不得商用。
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