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一种光学器件及其形成方法，其中形成方法包括：形成衬底以及位于衬底上的光电器件层；在所述衬底和光电器件层上形成介质结构，所述介质结构包括：第一介质层、位于第一介质层上的第一阻挡层、以及位于第一阻挡层上的第二介质层；在所述第二介质层内形成第一开...
该专利属于中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。

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