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本申请涉及ITO靶材技术领域，本申请公开了一种高均匀性ITO靶材及其制备方法。一种高均匀性ITO靶材，包括以下重量份数原料：ITO粉体96.5‑99.5份，Cu/Ni纳米复合物0.5‑3.5份；其中，ITO粉体中氧化铟和氧化锡的重量比为8....
该专利属于中山智隆新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中山智隆新材料科技有限公司授权不得商用。

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