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本公开涉及具有掩埋腔体的换能器组件及其制造方法。本公开涉及换能器组件或器件，其中一个或多个掩埋腔体存在于衬底内并且沿着衬底的表面限定或形成一个或多个膜。一个或多个压电致动器形成在一个或多个膜上，并且一个或多个压电致动器以具有换能器组件的操作...
该专利属于意法半导体国际公司所有，仅供学习研究参考，未经过意法半导体国际公司授权不得商用。

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