具有掩埋腔体的换能器组件及其制造方法技术

技术编号:41740340 阅读:24 留言:0更新日期:2024-06-19 13:00
本公开涉及具有掩埋腔体的换能器组件及其制造方法。本公开涉及换能器组件或器件,其中一个或多个掩埋腔体存在于衬底内并且沿着衬底的表面限定或形成一个或多个膜。一个或多个压电致动器形成在一个或多个膜上,并且一个或多个压电致动器以具有换能器组件的操作带宽的操作频率驱动膜。所述一个或多个膜中的每个膜在相应的部分处锚固到所述衬底的主体部分,以提供所述一个或多个膜中的每个膜的坚固且强的锚固,从而将不需要的弯曲模式推到所述换能器组件的操作带宽之外。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种包括掩埋在衬底内的腔体的换能器组件、以及一种形成包括掩埋在衬底内的腔体的换能器组件的方法。


技术介绍

1、常规的换能器管芯和组件通常包括压电致动器阵列,该压电致动器阵列存在于常规的换能器管芯和组件内以产生和传播指向目标的多个波(例如,诸如超声波的声波)。例如,所述多个波可以是超声波,其被引导到人以执行超声过程来对人内存在的对象(例如,婴儿、肿瘤、或人内的某个其他感兴趣点或目标)进行成像。压电致动器阵列可以是一个或多个压电微机械超声换能器(pmut)。为了生成更详细和更高保真度的超声图像,可以增加压电致动器阵列中的多个相应的压电致动器。

2、然而,这些常规换能器管芯和组件的压电致动器阵列中的相应压电致动器的数量通常受到限制,以防止或避免常规换能器管芯和组件的工作带宽之外的弯曲模式(flexural mode)。例如,避免或防止在工作带宽之外的这些弯曲模式导致相邻压电致动器之间的间隔仅被最小化到仅允许图像质量或保真度增加最小量的最小尺寸。


技术实现思路

1、本公开涉及包括压电致动器阵列的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种器件,包括:

2.根据权利要求1所述的器件,进一步包括:

3.根据权利要求1所述的器件,其中:

4.根据权利要求1所述的器件,其中:

5.根据权利要求1所述的器件,其中所述多个电通路中的每个电通路位于所述腔体阵列的一对相应的相邻腔体与所述压电致动器阵列的一对相应的相邻压电致动器之间。

6.根据权利要求1所述的器件,其中:

7.根据权利要求1所述的器件,其中:

8.根据权利要求7所述的器件,其中:

9.根据权利要求1所述的器件,其中所述腔体阵列的每个相应腔体与所述腔体阵列的相邻腔体间隔小...

【技术特征摘要】

1.一种器件,包括:

2.根据权利要求1所述的器件,进一步包括:

3.根据权利要求1所述的器件,其中:

4.根据权利要求1所述的器件,其中:

5.根据权利要求1所述的器件,其中所述多个电通路中的每个电通路位于所述腔体阵列的一对相应的相邻腔体与所述压电致动器阵列的一对相应的相邻压电致动器之间。

6.根据权利要求1所述的器件,其中:

7.根据权利要求1所述的器件,其中:

8.根据权利要求7所述的器件,其中:

9.根据权利要求1所述的器件,其中所述腔体阵列的每个相应腔体与所述腔体阵列的相邻腔体间隔小于20微米(μm)的尺寸。

10.根据权利要求1所述的器件,其中所述腔体阵列的每个相应腔体与所述腔体阵列的相邻腔体间隔等于或大于5微米(μm)的尺寸。

11.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:D·朱斯蒂F·夸利亚M·费雷拉C·L·佩瑞里尼
申请(专利权)人:意法半导体国际公司
类型:发明
国别省市:

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