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本发明涉及工程技术领域，公开了一种包含阻锂扩散层的中子源锂靶及其制备方法。该中子源锂靶包括由下至上依次叠层的基板结构，衬底层，阻锂扩散层，锂靶层，以及盖设于锂靶层外周的保护层；阻锂扩散层与保护层对锂靶层的全部外周表面形成包封；阻锂扩散层的材...
该专利属于华硼中子科技（杭州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华硼中子科技（杭州）有限公司授权不得商用。

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