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本发明提供一种光刻胶扩散效应的计算方法，根据光刻系统的光学系统的照明源确定光刻系统的光学系统的透射交叉系数；光学系统的透射交叉系数为与光罩形状无关的四维函数，其用于表征从照明源到像平面在内的整个光学系统的作用；执行光罩中布局图案的光学邻近校...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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