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本发明涉及晶硅电池生产领域，具体公开一种光化学硅片清洗槽体结构，包括清洗槽主槽体，所述清洗槽主槽体的一侧管路连接有光密闭箱，清洗槽主槽体的内部设有第一曝气装置，光密闭箱的内部设有第二曝气装置，第二曝气装置的一端贯穿所述光密闭箱的侧壁与气体输...
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