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本发明提供了一种带有散射条的掩模版组合，包括第一掩模版和第二掩模版：第一掩模版包括对准标记、核心图形和位于核心图形旁边的散射条，所述散射条的宽度大于适用于该光刻版组合的光源的最小成像尺寸；第二掩模版包括与第一掩模版的对准标记相同的对准标记、...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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