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一种平面化的单周期反转磁聚焦结构制造技术
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下载一种平面化的单周期反转磁聚焦结构的技术资料
文档序号:41730213
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本发明公开了一种平面化的单周期反转磁聚焦结构,涉及真空电子技术领域,包括:倒向极靴、第一极靴、第二极靴、第一永磁体、第二永磁体、磁屏、小磁块和真空密封管壳;磁屏位于真空密封管壳的两端;真空密封管壳穿过倒向极靴、第一极靴、第二极靴,并置于小磁...
该专利属于北京航空航天大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京航空航天大学授权不得商用。
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