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一种半导体结构的形成方法，包括：提供基底，包括衬底、位于衬底上的鳍部、位于鳍部露出的衬底上的第一隔离结构、以及横跨鳍部且覆盖鳍部的部分顶部和部分侧壁的栅极结构；在基底的表面形成第一掩膜层，基底沿鳍部的延伸方向包括相邻的器件区和隔离区，第一掩...
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