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一种自清洁合成革用印刷上料槽装置及清洗方法,包括上料槽(10)、印刷辊(20)和超声波清洗器(30),所述印刷辊(20)表面沿轴和/或周向方向至少包括无印花区(201)、精细印花区(202)、粗疏印花区(203)以及复合印花区(204)中的...该专利属于明新梅诺卡(江苏)新材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过明新梅诺卡(江苏)新材料有限公司授权不得商用。
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一种自清洁合成革用印刷上料槽装置及清洗方法,包括上料槽(10)、印刷辊(20)和超声波清洗器(30),所述印刷辊(20)表面沿轴和/或周向方向至少包括无印花区(201)、精细印花区(202)、粗疏印花区(203)以及复合印花区(204)中的...