【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于合成革印刷设备,具体是指一种自清洁合成革用印刷上料槽装置及清洗方法。
技术介绍
1、合成革是模拟天然革的组成和结构并可作为其代用材料的塑料制品,通常其表面需要根据使用需求通过印刷机印刷纹饰,印刷机的印刷辊和印刷上料槽在每次生产结束或者更换表处液时都要进行清洗,而且印刷辊的表面结构精细和复杂,极难清洗干净,物料容易沾污,如果在生产过程中印刷辊未清理干净,对后面的合成革带液均匀性有很大的影响。
2、一般的清洗方式是采用毛刷配合清洗剂对印刷辊和上料槽清洗,此种清洗方式效率低且不容易清洗干净,目前有在上料槽内设置高压喷头或采用超声波清洗,但该方式并不能针对印刷辊表面不同区域纹饰的精细程度进行调整,仍是对印刷辊表面的统一清洗,因此还会存在效率低的问题。
技术实现思路
1、针对上述情况,为克服现有技术的缺陷,本专利技术创造性地采用了一种自清洁合成革用印刷上料槽装置及清洗方法,以至少部分解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、采取的技术方案如下:本专利技术第一方面提出了
...【技术保护点】
1.一种自清洁合成革用印刷上料槽装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的自清洁合成革用印刷上料槽装置,其特征在于:所述超声波清洗器(30)包括:
3.根据权利要求2所述的自清洁合成革用印刷上料槽装置,其特征在于:N组所述超声波换能器(31)均设置于所述印刷辊(20)轴线与所述上料槽(10)底面的交线处,且每组至少包括两个所述超声波换能器(31)。
4.根据权利要求1-3中的任意一项所述的自清洁合成革用印刷上料槽装置,其特征在于:还包括导流板(40),所述导流板(40)设置在所述超声波清洗器(30)与印刷辊(20)之间,并用
...【技术特征摘要】
1.一种自清洁合成革用印刷上料槽装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的自清洁合成革用印刷上料槽装置,其特征在于:所述超声波清洗器(30)包括:
3.根据权利要求2所述的自清洁合成革用印刷上料槽装置,其特征在于:n组所述超声波换能器(31)均设置于所述印刷辊(20)轴线与所述上料槽(10)底面的交线处,且每组至少包括两个所述超声波换能器(31)。
4.根据权利要求1-3中的任意一项所述的自清洁合成革用印刷上料槽装置,其特征在于:还包括导流板(40),所述导流板(40)设置在所述超声波清洗器(30)与印刷辊(20)之间,并用于将所述上料槽(10)内靠近所述超声波清洗器(30)的液体介质沿所述超声波清洗器(30)、印刷辊(20)的轴线连线方向向所述印刷辊(20)表面导流。
5.根据权利要求4所述的自清洁合成革用印刷上料槽装置,其特征在于:所述导流板(40)包括:
6.根据权利要求5所述的自清洁合成革用印刷上料槽装置,其特征在于:沿所述印刷辊(20)轴线方向上包括所述精细印花区(202)的区域,所述第一导流板(42)的内壁设有第一导板(422)和/或所述第二导流板(4...
【专利技术属性】
技术研发人员:李子晗,庄君新,宋兵,孙小军,
申请(专利权)人:明新梅诺卡江苏新材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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