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本公开提供了一种基站和清洁系统，基站包括：至少一个容纳腔，以及供自移动清洁设备停靠的停靠腔；所述基站的高度小于350mm。本公开实施例中基站的高度更低，可以被放置在低矮空间内，提高了基站的适应性。而且，集成箱体可移动，如果集成箱体采用嵌入式...
该专利属于追觅创新科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过追觅创新科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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