基站及清洁系统技术方案

本公开提供了一种基站和清洁系统，基站包括：至少一个容纳腔，以及供自移动清洁设备停靠的停靠腔；所述基站的高度小于350mm。本公开实施例中基站的高度更低，可以被放置在低矮空间内，提高了基站的适应性。而且，集成箱体可移动，如果集成箱体采用嵌入式方式放置，无需将基站搬出所嵌入的空间，通过移动集成箱体即实现更换耗材，更换耗材更方便。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及清洁设备，具体而言，涉及一种基站及清洁系统。

技术介绍

1、自移动清洁设备在接收到清洁指令时，可以在待清洁表面移动，并收集待清洁表面的脏污，完成清理工作。自移动清洁设备的这种自动清洁方式，可以减少甚至代替人工清洁工作。在完成清洁任务、或满足其他条件时，自移动清洁设备会返回基站，基站可以对自移动清洁设备进行相应维护操作，例如充电、集尘等操作。

2、当基站采用嵌入方式放置，要先将基站从所嵌入的空间搬出来才能更换耗材。对基站更换耗材时，通常要从基站的上方更换，而且基站高度较高，这就需要基站的上方具有足够的竖直操作空间。因此，目前基站不仅更换耗材不方便，还导致基站的适应性较差，无法安装在低矮的空间内，例如：基站无法安装在橱柜、台盆柜、阳台柜等下方。

技术实现思路

1、本公开实施例提供了一种基站及清洁系统。

2、根据本公开第一方面实施例提供了一种基站，所述基站包括：至少一个容纳腔，以及，供自移动清洁设备停靠的停靠腔；

3、所述基站的高度小于350mm。至少所述容纳腔的一部分本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基站，其特征在于，所述基站(100)包括：至少一个容纳腔(112)，以及，供自移动清洁设备(500)停靠的停靠腔(111)；

2.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，至少所述容纳腔(112)的一部分空间位于所述停靠腔(111)的上方，或，至少所述容纳腔(112)的一部分空间位于所述停靠腔(111)的侧方。

3.根据权利要求1或2所述的基站，其特征在于，所述停靠腔(111)的高度与所述基站(100)的高度的比例为：1/1.5～1/3.5。

4.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，所述基站(100)包括：

5.根据权利要求4所述的基...

【技术特征摘要】

1.一种基站，其特征在于，所述基站(100)包括：至少一个容纳腔(112)，以及，供自移动清洁设备(500)停靠的停靠腔(111)；

2.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，至少所述容纳腔(112)的一部分空间位于所述停靠腔(111)的上方，或，至少所述容纳腔(112)的一部分空间位于所述停靠腔(111)的侧方。

3.根据权利要求1或2所述的基站，其特征在于，所述停靠腔(111)的高度与所述基站(100)的高度的比例为：1/1.5～1/3.5。

4.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，所述基站(100)包括：

5.根据权利要求4所述的基站，其特征在于，所述功能空间(124)的腔壁构成集成箱体(120)；

6.根据权利要求5所述的基站，其特征在于，当所述集成箱体(120)处于所述第一位置时，所述功能空间(124)位于所述容纳腔(112)内；当所述集成箱体(120)处于所述第二位置时，所述功能空间(124)位于所述容纳腔(112)外，且所述功能空间(124)显露在外部环境中。

7.根据权利要求5或6所述的基站，其特征在于，所述基站(100)还包括：

8.根据权利要求5所述的基站，其特征在于，所述集成箱体(120)包括：

9.根据权利要求8所述的基站，其特征在于，所述基站(100)还包括：升降组件，和/或，转动组件(40)；

10.一种基站，其特征在于，所述基站(100)包括：

11.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕小明，李东，薛金龙，胡汝骞，罗绍涵，和孟达，张天弘，陈春城，李会超，
申请(专利权)人：追觅创新科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：