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本发明公开了一种等离子刻蚀残留物清洗液，其含有羟胺及其衍生物、溶剂、水、螯合剂，其特征在于：其还含有含羧基的聚合物与含颜料亲和基团的聚合物。本发明的等离子刻蚀残留物清洗液是通过含羧基聚合物和含颜料亲和基团的聚合物复配从而根本上解决在半导体制...
该专利属于安集微电子（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子（上海）有限公司授权不得商用。

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