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本公开属于半导体技术领域，具体涉及一种研磨液供给组件、装置及化学机械抛光系统。研磨液供给组件包括：至少两个供应管道，用于供应研磨液，任意供应管道所供应的研磨液中氧化剂的浓度各不相同；流量调节件，与每个供应管道相连通，且流量调节件的出口被配置...
该专利属于深圳市昇维旭技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市昇维旭技术有限公司授权不得商用。

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