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一种曝光设备焦距监测的方法，包括：提供具有基准标记的掩模板，通过光刻工艺和刻蚀工艺，将所述基准标记转移到基底的上，在所述基底上形成基准标记图案；提供具有测试标记的掩模板；在具有所述基准标记图案的基底上形成光刻胶层，利用所述的曝光设备执行光刻...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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