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一种EB或EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有聚合物和溶剂，上述聚合物包含下述式(1)所示的重复单元。(在式(1)中，R1表示碳原子数1～20的1价有机基。R2表示氢原子或碳原子数1～6的烷基。)...
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