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本发明公开了一种化学机械抛光液,其含有研磨颗粒、氧化剂和水,其还含有下列表面摩擦调节剂中的一种或多种:水溶性多聚脂肪链类聚合物、水溶性醇类、水溶性醚类和水溶性纤维素类。本发明的抛光液可降低表面磨擦系数,减少抛光基底表面的缺陷(划伤、腐蚀和表...该专利属于安集微电子(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过安集微电子(上海)有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种化学机械抛光液,其含有研磨颗粒、氧化剂和水,其还含有下列表面摩擦调节剂中的一种或多种:水溶性多聚脂肪链类聚合物、水溶性醇类、水溶性醚类和水溶性纤维素类。本发明的抛光液可降低表面磨擦系数,减少抛光基底表面的缺陷(划伤、腐蚀和表...