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本发明属于纳米压印技术领域，具体为一种基于软模板纳米压印技术的硅纳米线的制作方法。其步骤包括：在原始模板上淀积并烘烤二层胶体，并揭下作为软压印模板。在表面为硅层的衬底上旋涂一层光刻胶并前烘，使用前面得到的软模板进行压印，然后使用ＲＩＥ刻蚀去...
该专利属于复旦大学所有，仅供学习研究参考，未经过复旦大学授权不得商用。

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