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本技术提供了一种高效雾化加热装置,包括:隔热载体,连接在隔热载体上的硅基底,沉积在硅基底上的加热层,以及连接在加热层两侧的正负电极;隔热载体中部开设有供液通道,硅基底于隔热载体侧向内开设有与供液通道连通的阻热槽,加热层和硅基底上均匀的开设有...该专利属于晶上电子科技(江苏)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过晶上电子科技(江苏)有限公司授权不得商用。
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本技术提供了一种高效雾化加热装置,包括:隔热载体,连接在隔热载体上的硅基底,沉积在硅基底上的加热层,以及连接在加热层两侧的正负电极;隔热载体中部开设有供液通道,硅基底于隔热载体侧向内开设有与供液通道连通的阻热槽,加热层和硅基底上均匀的开设有...