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本发明提供一种采用侧壁角监控曝光装置的方法，侧壁角为曝光装置曝出的晶圆上图案的侧壁角，该方法用于监控曝光装置的聚焦偏移值，先测量待监控的曝光装置不同聚焦偏移值下曝出的晶圆图案侧壁角的大小，再获得侧壁角与曝光装置聚焦偏移值的具体关系式。每次对...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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