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本发明提供一种用于同一图层曝光的掩膜版及其多重曝光方法，属于光刻技术领域。本发明将对同一图层的多次曝光的掩膜版制作在同一掩膜版上，从而使该掩膜版包括多个相互独立的掩膜版图形区域；在多重曝光时，通过掩膜版承载台控制掩膜版的移动，使每次曝光时选...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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