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一种半导体结构的形成方法，包括：提供待刻蚀层，包括第一区和第二区；在待刻蚀层上形成第一核心材料层和第一开口，第一开口暴露出待刻蚀层第二区表面；在第一开口内形成硬掩膜层；在第一核心材料层上形成第一核心层和第二核心层；在第一核心层侧壁形成第一侧...
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