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本发明公开了用于形成半导体结构的方法和计算设备。一种用于形成半导体结构的方法，其包括：对表面包含硬掩膜层的晶圆执行光刻材料涂覆和图案化光刻，以形成基于轮廓图案的第一经图案化的硬掩膜层，该轮廓图案基于光刻中使用的曝光图案的轮廓；通过光刻对第一...
该专利属于张江国家实验室所有，仅供学习研究参考，未经过张江国家实验室授权不得商用。

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