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公开了沉积设备以及用于掩模组件的形状校正方法。沉积设备包括：室；台，其中限定有台开口并且台设置在室内部；框架，设置在台上并且其中限定有与台开口对应的框架开口；掩模，联接到框架并且其中限定有与框架开口对应的多个沉积开口；沉积源，被配置为向框架...
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