【技术实现步骤摘要】
本公开在本文中涉及一种包括掩模组件的沉积设备和用于掩模组件的形状校正方法，并且更具体地，涉及在用于通过沉积设备制造显示面板的沉积工艺中使用的掩模组件和用于掩模组件的形状校正方法。
技术介绍
1、诸如电视、便携式电话、平板计算机、汽车导航系统和游戏控制台的显示设备可以包括显示面板以便显示图像。显示面板可以包括多个像素。像素中的每一个可以包括诸如晶体管的驱动元件和诸如有机发光二极管的显示元件。显示元件可以通过在衬底上沉积电极和发光图案来形成。
2、发光图案可以使用其中限定有沉积开口的掩模来图案化，以形成在预定区中。为了提高显示面板的生产良率，正在开发使用大面积掩模的沉积工艺技术。然而，存在的限制在于，当掩模未能与沉积设备中的要求位置对准时，形成发光图案的位置的精度可能降低。
技术实现思路
1、本公开提供了一种在大面积面板的沉积工艺中使用的掩模组件以及用于掩模组件的形状校正方法。本公开还提供了一种具有提高的沉积精度的掩模组件。
2、本专利技术的实施方式提供一种沉积设备，包...
【技术保护点】
1.一种沉积设备，包括：
2.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，所述磁力部在第一模式中不与所述框架接触，并且
3.根据权利要求2所述的沉积设备，其中，所述框架开口的形状被改变为与当所述框架的形状被改变时的所述框架的所述形状对应。
4.根据权利要求2所述的沉积设备，其中，施加到各个所述磁力部的所述磁力在强度上彼此不同。
5.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，所述多个校正单元中的每一个还包括设置在所述磁力部和所述驱动部之间的延伸部，并且所述延伸部的长度在所述台上改变。
6.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，...
【技术特征摘要】
1.一种沉积设备，包括：
2.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，所述磁力部在第一模式中不与所述框架接触，并且
3.根据权利要求2所述的沉积设备，其中，所述框架开口的形状被改变为与当所述框架的形状被改变时的所述框架的所述形状对应。
4.根据权利要求2所述的沉积设备，其中，施加到各个所述磁力部的所述磁力在强度上彼此不同。
5.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，所述多个校正单元中的每一个还包括设置在所述磁力部和所述驱动部之间的延伸部，并且所述延伸部的长度在所述台上改变。
6.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，所述框架包括第一部、第二部、第三部和第四部，所述第一部和所述第二部在第一方向上延伸并且在与所述第一方向交叉的第二方向上彼此间隔开，所述第三部和所述第四部在所述第二方向上延伸并且在所述第一方向上彼此间隔开，并且所述第三部和所述第四部连接到所述第一部和所述第二部以限定所述框架开口，以及
7.根据权利要求6所述的沉积设备，其中，所述多个校正单元中的其他一些校正单元与所述第三部相邻地设置成沿所述第二方向彼此间隔开，并且
8.根据权利要求7所述的沉积设备，其中，所述第三部和所述第...
【专利技术属性】
技术研发人员：张原荣，李锺大，闵秀玹，禹珉娥，洪承柱，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。