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气相沉积系统技术方案
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文档序号:4166419
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本发明提供了一种气相沉积系统,其包含:一离子产生区、一反应腔,以及一置于该产生区与该反应腔之间的多孔管。该产生区提供一第一元素的等离子。该多孔管将该第一元素的等离子及一第二元素汇集导入该反应腔。该第一元素的等离子及该第二元素于该反应腔中与一...
该专利属于先进开发光电股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过先进开发光电股份有限公司授权不得商用。
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