温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种双接触孔蚀刻停止层工艺，包括：提供基板，基板上具有第一元件区、第二元件区以及位于第一元件区与第二元件区之间的浅沟槽区；在基板上形成具有第一应力的第一应力诱发薄膜，第一应力诱发薄膜未覆盖第二元件区；以及在基板上形成具有第二应力的第二应力诱...
该专利属于联发科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过联发科技股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。