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本发明公开一种正极性近红外发光二极管芯片的制备方法,包括:(1)在二极管外延片的上P面制备硅基介质层。(2)以该硅基介质层为掩膜,对外延片的N面化学减薄。(3)在减薄后的所述N面蒸镀金属,然后通过光刻、腐蚀、去胶,得到N面电极。(4)在所述...该专利属于山东浪潮华光光电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过山东浪潮华光光电子股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开一种正极性近红外发光二极管芯片的制备方法,包括:(1)在二极管外延片的上P面制备硅基介质层。(2)以该硅基介质层为掩膜,对外延片的N面化学减薄。(3)在减薄后的所述N面蒸镀金属,然后通过光刻、腐蚀、去胶,得到N面电极。(4)在所述...