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本发明提供了一种晶圆双面清洗装置以及清洗方法，晶圆双面清洗装置包括支撑机构和一对清洗机构，所述支撑机构设置有旋转台，所述旋转台上设置有晶圆；在所述旋转台旋转时，所述晶圆随同所述旋转台进行旋转；一对清洗机构分别设置在所述晶圆的上侧和下侧；在外...
该专利属于北京晶亦精微科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京晶亦精微科技股份有限公司授权不得商用。

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