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提供一种使用超临界流体的衬底处理装置，该装置能够在具有高深宽比的沟槽中沉积共形膜并且能够执行无空隙的完全间隙填充。衬底处理装置包括：上容器，包括第一主体和供应端口，该供应端口形成在第一主体中并供应工艺流体；挡板，安装在上容器中，并通过扩散工...
该专利属于细美事有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过细美事有限公司授权不得商用。

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