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本发明提供一种化学机械研磨组合物，其包含：(a)约3.0重量％至约10重量％的二氧化硅研磨剂；(b)具有约400kDa至约7000kDa的重均分子量的阴离子聚合物；和(c)水，其中所述研磨组合物的粘度为至少约1cPs，粘度(cPs)与二氧化...
该专利属于CMC材料有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过CMC材料有限责任公司授权不得商用。

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