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在ＣＶＤ法中将金刚石层稳定地施涂在石墨基体上，条件是在ＣＶＤ法之前对石墨基体实施下列预处理步骤：在高于５００℃，优选高于８００℃的温度下于真空中在蚀刻气体气氛中精细净化表面；机械去除松散的颗粒；用极细的金刚石颗粒给基体表面施加晶种；在Ｔ＞５...
该专利属于康迪亚斯有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过康迪亚斯有限责任公司授权不得商用。

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