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本发明公开了一种去除模拟基板上聚酰亚胺膜的方法,包括:步骤1.在设定的特征参数下,利用一组气体与模拟基板上聚酰亚胺膜发生第一次反应;步骤2.在设定的特征参数下,利用氧气的等离子体与所述第一次反应后的残余物发生第二次反应;所述特征参数包括高频...该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种去除模拟基板上聚酰亚胺膜的方法,包括:步骤1.在设定的特征参数下,利用一组气体与模拟基板上聚酰亚胺膜发生第一次反应;步骤2.在设定的特征参数下,利用氧气的等离子体与所述第一次反应后的残余物发生第二次反应;所述特征参数包括高频...