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本发明的实施例公开了一种像素结构及其制备方法,涉及液晶显示领域,解决了现有像素结构的漏极电极和像素电极接触电阻较大的问题。本发明实施例,在像素结构漏极电极上方的钝化薄膜形成过孔,该过孔同时穿过钝化薄膜和低电阻金属薄膜,使得该过孔的底部为抗腐...该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。
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本发明的实施例公开了一种像素结构及其制备方法,涉及液晶显示领域,解决了现有像素结构的漏极电极和像素电极接触电阻较大的问题。本发明实施例,在像素结构漏极电极上方的钝化薄膜形成过孔,该过孔同时穿过钝化薄膜和低电阻金属薄膜,使得该过孔的底部为抗腐...